Maestría en Propiedad Industrial, Derechos de Autor y Nuevas Tecnologías Tecnologías
RVOE 20100189 del 25 de febrero de 2010
RVOE 20100189 del 25 de febrero de 2010
Próximos periodos
Objetivo
El alumno será capaz de comprender la realidad jurídica nacional e internacional en materia de Propiedad Intelectual. Conocerá a fondo las distintas figuras y procedimientos jurídicos relativos a la Propiedad industrial, Derechos de Autor y Nuevas Tecnologías mediante el novedoso método del caso y utilizando innovadoras herramientas tecnológicas.
¿Es para ti?
PERFIL DE INGRESO Está dirigido a aquellos abogados y profesionistas cuya práctica profesional se encuentre vinculada a las siguientes ramas: Propiedad Industrial Derechos de Autor Derechos de las Nuevas Tecnologías
Requisitos
PROCESO DE ADMISIÓN 1. Llenar solicitud de inscripción 2. Sostener una entrevista con el área académica. 3. En caso de ser aceptado entregar la siguiente documentación: Copia de título legalizado por ambos lados Copia de cédula profesional Copia de CURP Certificado original de estudios de licenciatura legalizado Acta de nacimiento original 6 fotografías tamaño credencial, ovaladas, blanco y negro, en papel mate autoadherible, con ropa formal y clara 4. Realizar el pago
Augusto Rodin No. 498, Insurgentes Mixcoac, Benito Juárez, 03920 Ciudad de México, CDMX, México